Laser-Gedächtnis-erhellte Titan- spritzenziel Oberflächen-Inhalt des Ti 99,96%

Hoher Reinheitsgrad-Titanziel-Titan-Spritzenziel

Wir können rundes Titanziel, quadratisches Titanziel, rechteckiges Titanziel zur Verfügung stellen,

oder entsprechend Ihren Anforderungen oder Zeichnungen.

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welches die chemische Zusammensetzung und die physikalischen Eigenschaften zeigt

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Berufstitanherstellungserfahrung.

Weil wir nur Titan machen, sind wir im Titan professioneller

ISO9001: Bescheinigung 2015

Freundlicher Kundendienst und kurze Lieferfrist.

Titanspritzenziele werden hauptsächlich in den Elektronik- und Informationsindustrien, wie integrierten Schaltungen, Informationsspeicherung, Flüssigkristallanzeigen, Laser-Gedächtnis, elektronisches Steuergeräten, etc. benutzt; sie können auf dem Gebiet der Glasbeschichtung auch benutzt werden; sie können in den haltbaren Materialien, in Korrosion Widerstand der hohen Temperatur, in den leistungsfähigen dekorativen Produkten und in anderen Industrien auch benutzt werden.

Und Spritzenziele von hohem Reinheitsgrad mit hoher Dichte umfassen:
Spritzenziel (Reinheit: 99.9%-99.999%)

Magnetronspritzenbeschichtung ist ein neuer Typ körperliche Dampfbeschichtungsmethode. Verglichen mit Verdampfungsbeschichtungsmethode, hat sie offensichtliche Vorteile in vielen Aspekten. Als verhältnismäßig reife Technologie, die entwickelt worden ist, ist das spritzende Magnetron auf vielen Gebieten angewendet worden. Titanspritzenziel
Spritzentechnologie-Titan-Spritzenziele
Das Spritzen ist eine der Haupttechnologien für die Vorbereitung von Dünnfilmmaterialien. Es benutzt die Ionen, die durch eine Ionenquelle erzeugt werden, um sich zu beschleunigen und in einem Vakuum anzusammeln, um einen Hochgeschwindigkeitsenergieionenstrahl zu bilden, bombardieren Sie die feste Oberfläche und kinetische Energie des Austausches zwischen Ionen und festen Oberflächenatomen. Die Atome auf der festen Oberfläche verlassen den Körper und werden auf der Oberfläche des Substrates niedergelegt. Der bombardierte Körper ist der Rohstoff für das Vorbereiten des Dünnfilms, der durch die Spritzenmethode niedergelegt wird, die das Spritzenziel genannt wird. Verschiedene Arten von gespritzten Dünnfilmmaterialien sind in den Halbleiterintegrierten schaltungen, im Solar-photovoltaics, in notierenden Medien, in den Flachbildschirmen und in den Werkstückoberflächenbeschichtungen weitverbreitet gewesen.