Λαμπρυμένη στόχος επιφάνεια 99,96% επιμετάλλωσης τιτανίου μνήμης λέιζερ περιεκτικότητα σε Tj

Ψεκάζοντας στόχος τιτανίου στόχων τιτανίου υψηλής αγνότητας

Μπορούμε να παρέχουμε γύρω από το στόχο τιτανίου, τετραγωνικός στόχος τιτανίου, ορθογώνιος στόχος τιτανίου,

ή σύμφωνα με τις απαιτήσεις ή τα σχέδιά σας.

Παρέχετε στην έκθεση ποιοτικής επιθεώρησης όπως αυτό τα αγαθά,

όποιος παρουσιάζει τη χημική σύνθεση και σωματικές ιδιότητες

100% ποιοτική επιθεώρηση, εξασφάλιση ποιότητας.

Επαγγελματική εμπειρία κατασκευής τιτανίου.

Επειδή κάνουμε μόνο το τιτάνιο, είμαστε επαγγελματικότεροι στο τιτάνιο

ISO9001: πιστοποίηση του 2015

Φιλική εξυπηρέτηση πελατών και σύντομος χρόνος παράδοσης.

Οι ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου χρησιμοποιούνται κυρίως στις βιομηχανίες ηλεκτρονικής και πληροφόρησης, όπως τα ολοκληρωμένα κυκλώματα, η αποθήκευση πληροφοριών, οι υγρές επιδείξεις κρυστάλλου, η μνήμη λέιζερ, οι ηλεκτρονικές συσκευές ελέγχου, κ.λπ. μπορούν επίσης να χρησιμοποιηθούν στον τομέα του επιστρώματος γυαλιού μπορούν επίσης να χρησιμοποιηθούν στα wear-resistant υλικά, την υψηλής θερμοκρασίας διάβρωση αντίστασης, τα διακοσμητικά προϊόντα υψηλών σημείων και άλλες βιομηχανίες.

Οι High-purity και ψεκάζοντας στόχοι υψηλής πυκνότητας περιλαμβάνουν:
Ψεκάζοντας στόχος (αγνότητα: 99.9%-99.999%)

Magnetron το ψεκάζοντας επίστρωμα είναι ένας νέος τύπος της φυσικής μεθόδου επιστρώματος ατμού. Έναντι της μεθόδου επιστρώματος εξάτμισης, έχει τα προφανή πλεονεκτήματα σε πολλές πτυχές. Σαν σχετικά ώριμη τεχνολογία που έχει αναπτυχθεί, magnetron η επιμετάλλωση έχει εφαρμοστεί σε πολλούς τομείς. Ψεκάζοντας στόχος τιτανίου
Ψεκάζοντας ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου τεχνολογίας
Η επιμετάλλωση είναι μια από τις κύριες τεχνολογίες για την προετοιμασία των υλικών λεπτών ταινιών. Χρησιμοποιεί τα ιόντα που παράγονται από μια ιονική πηγή που επιταχύνει και αθροίζω σε ένα κενό για να διαμορφώσει μια ιονική ακτίνα μεγάλης ενέργειας, να βομβαρδίσει τη στερεά επιφάνεια, και ανταλλάσσει την κινητική ενέργεια μεταξύ των ιόντων και των στερεών ατόμων επιφάνειας. Τα άτομα στη στερεά επιφάνεια αφήνουν το στερεό και κατατίθενται στην επιφάνεια του υποστρώματος. Το βομβαρδισμένο στερεό είναι η πρώτη ύλη για την προετοιμασία της λεπτής ταινίας που κατατίθεται με τη μέθοδο επιμετάλλωσης, η οποία καλείται ψεκάζοντας στόχο. Οι διάφοροι τύποι ψεκασμένων υλικών λεπτών ταινιών έχουν χρησιμοποιηθεί ευρέως στα ολοκληρωμένα κυκλώματα ημιαγωγών, το ηλιακό photovoltaics, τα καταγράφοντας μέσα, τις επίπεδες οθόνες, και τα επιστρώματα επιφάνειας κομματιών προς κατεργασία.