CNC στόχων επιμετάλλωσης τιτανίου υψηλής αγνότητας επιφάνεια τόρνου για το επίστρωμα γυαλιού

Ψεκάζοντας στόχος τιτανίου στόχων τιτανίου υψηλής αγνότητας

Μπορούμε να παρέχουμε γύρω από το στόχο τιτανίου, τετραγωνικός στόχος τιτανίου, ορθογώνιος στόχος τιτανίου,

ή σύμφωνα με τις απαιτήσεις ή τα σχέδιά σας.

Παρέχετε στην έκθεση ποιοτικής επιθεώρησης όπως αυτό τα αγαθά,

όποιος παρουσιάζει τη χημική σύνθεση και σωματικές ιδιότητες

100% ποιοτική επιθεώρηση, εξασφάλιση ποιότητας.

Επαγγελματική εμπειρία κατασκευής τιτανίου.

Επειδή κάνουμε μόνο το τιτάνιο, είμαστε επαγγελματικότεροι στο τιτάνιο

ISO9001: πιστοποίηση του 2015

Φιλική εξυπηρέτηση πελατών και σύντομος χρόνος παράδοσης.

Οι ψεκάζοντας στόχοι τιτανίου χρησιμοποιούνται κυρίως στις ηλεκτρονικές και βιομηχανίες πληροφόρησης όπως τα ολοκληρωμένα κυκλώματα, η αποθήκευση πληροφοριών, οι υγρές επιδείξεις κρυστάλλου, η μνήμη λέιζερ και οι ηλεκτρονικές συσκευές ελέγχου. Μπορούν επίσης να χρησιμοποιηθούν στον τομέα του επιστρώματος γυαλιού. Μπορεί επίσης να χρησιμοποιηθεί στην ένδυση - ανθεκτικά υλικά, υψηλής θερμοκρασίας αντιδιαβρωτικά, διακοσμητικά προϊόντα ασφαλίστρου και άλλες βιομηχανίες.

Ψεκάζοντας στόχος High-purity, τιτανίου υψηλής πυκνότητας:

Ψεκάζοντας στόχος τιτανίου (αγνότητα: 99.9% -99.999%)

Magnetron το ψεκάζοντας επίστρωμα είναι ένας νέος τύπος της φυσικής μεθόδου απόθεσης. Υπάρχουν πολλά προφανή πλεονεκτήματα πέρα από τις μεθόδους επιστρώματος απόθεσης ατμού. Σαν σχετικά ώριμη τεχνολογία που αναπτύσσεται, magnetron η επιμετάλλωση έχει εφαρμοστεί σε πολλούς τομείς. Ψεκάζοντας στόχος τιτανίου
Ψεκάζοντας ψεκάζοντας στόχος τιτανίου τεχνολογίας

Η επιμετάλλωση είναι μια από τις κύριες τεχνολογίες για την κατασκευή των υλικών λεπτών ταινιών. Τα ιόντα που παράγονται από την ιονική πηγή χρησιμοποιούνται για να επιταχύνουν και να αθροίσουν στο κενό για να διαμορφώσουν μια γρήγορη ενεργειακή ιονική ακτίνα, που προσκρούει στη στερεά επιφάνεια και που ανταλλάσσει την κινητική ενέργεια μεταξύ των ιόντων και των στερεών ατόμων επιφάνειας. Τα άτομα στην επιφάνεια ενός στερεού αφήνουν το στερεό και την κατάθεση στην επιφάνεια του υποστρώματος. Το προσκρουμένο στερεό είναι μια πρώτη ύλη για την προετοιμασία των λεπτών ταινιών που κατατίθενται με τη μέθοδο επιμετάλλωσης, αποκαλούμενη ψεκάζοντας στόχους. Οι διάφοροι τύποι ψεκασμένων υλικών λεπτών ταινιών χρησιμοποιούνται ευρέως στα ολοκληρωμένα κυκλώματα ημιαγωγών, το photovoltaics, τα καταγράφοντας μέσα, τις επίπεδες οθόνες, και τα επιστρώματα επιφάνειας κομματιών προς κατεργασία.

Επεξεργασία των διάφορων στόχων επιστρώματος:

Στόχοι μετάλλων: στόχος βολφραμίου, στόχος μολυβδαίνιου, στόχος τανταλίου, στόχος νιόβιου, στόχος ζιρκονίου, στόχος κοβαλτίου, στόχος βαναδίου, στόχος χαλκού, στόχος λευκόχρυσου, hafnium στόχος, στόχος νιόβιου, στόχος αργιλίου, στόχος σιδήρου, στόχος χρωμίου, στόχος κραμάτων τιτάνιο-νιόβιου, τιτανίου-ζιρκονίου στόχος κραμάτων, στόχος κραμάτων τιτάνιο-βολφραμίου, στόχος κραμάτων τιτάνιο-gui, στόχος τιτάνιο-αργιλίου, στόχος κραμάτων νικέλιο-χρωμίου, στόχος κραμάτων αργίλιο-χρωμίου, high-purity στόχος τιτανίου, στόχος τιτανίου εξαιρετικά-υψηλός-αγνότητας, high-purity στόχος νικελίου, high-purity στόχος τανταλίου, υλικός, υπερβολικά υψηλός στόχος αργιλίου αγνότητας στόχων πολυπυρίτιων, (99.95%-99.999%),

Ταξινόμηση: Ιονικός στόχος επιστρώματος πολυ-τόξων, επίπεδος στόχος τιτανίου, περιστροφικός στόχος σωλήνων τιτανίου, πίσω πιάτο στόχων τιτανίου, πίσω σωλήνας στόχων τιτανίου

Χρήσεις: επίστρωμα εργαλείων, διακοσμητικό επίστρωμα, βιομηχανία ηλεκτρονικής, βιομηχανία επίπεδης οθόνης, επίστρωμα γυαλιού μεγάλης περιοχής χαμηλός-ε, ημιαγωγός, LCD, βιομηχανία ηλιακής ενέργειας, οπτικός φακός, οπτικοηλεκτρονική βιομηχανία, κεραμικός δεσμευτικός στόχος, ψεκάζοντας στόχος, κ.λπ.