Κυλινδρικό τιτανίου ψεκάζοντας υλικό ζιρκονίου στόχων TA1 καθαρό

Aputtering στόχος τιτανίου διαμέτρων 60/65/95/100*30/32/40/45mm

Προσαρμοσμένο τιτάνιο στόχων τιτανίου γύρω από το στόχο

Συνήθως θα παράσχουμε σε μια έκθεση ποιοτικής επιθεώρησης όπως αυτό τα αγαθά,

όποιος παρουσιάζει τη χημική σύνθεση και σωματικές ιδιότητες

Τετραγωνικός στόχος τιτανίου ανεφοδιασμού, τιτάνιο γύρω από το στόχο, ειδικός-διαμορφωμένος τιτάνιο στόχος

Η αγνότητα είναι ένας από τους κύριους δείκτες απόδοσης του στόχου,

επειδή η αγνότητα του στόχου έχει μια μεγάλη επιρροή στην απόδοση της λεπτής ταινίας.

Οι κύριες απαιτήσεις απόδοσης του στόχου:
αγνότητα
Η αγνότητα είναι ένας από τους κύριους δείκτες απόδοσης του στόχου, επειδή η αγνότητα του στόχου έχει μια μεγάλη επιρροή στην απόδοση της λεπτής ταινίας. Εντούτοις, στις πρακτικές εφαρμογές, οι απαιτήσεις για την αγνότητα του στόχου δεν είναι οι ίδιες. Παραδείγματος χάριν, με τη γρήγορη ανάπτυξη της βιομηχανίας μικροηλεκτρονικής, το μέγεθος της γκοφρέτας πυριτίου έχει αναπτυχθεί από 6», 8» σε 12», και το πλάτος της καλωδίωσης έχει μειωθεί από 0.5um σε 0.25um, 0.18um ή ακόμα και 0.13um. Προηγουμένως, η αγνότητα στόχων ήταν 99,995%. Μπορεί να καλύψει τις απαιτήσεις διαδικασίας του ολοκληρωμένου κυκλώματος 0.35um, ενώ η προετοιμασία των γραμμών 0.18um απαιτεί 99,999% ή ακόμα και 99.9999% για την αγνότητα του υλικού στόχων.
Περιεκτικότητα σε ακαθαρσίες
Οι ακαθαρσίες στα στερεά και το οξυγόνο στόχων και η υγρασία στους πόρους είναι οι κύριες πηγές μόλυνσης για τις κατατεθειμένες ταινίες. Οι στόχοι των διαφορετικών χρήσεων έχουν τις διαφορετικές απαιτήσεις για το διαφορετικό περιεχόμενο ακαθαρσιών. Παραδείγματος χάριν, οι καθαροί στόχοι αργιλίου και κραμάτων αργιλίου που χρησιμοποιούνται στη βιομηχανία ημιαγωγών έχουν τις ειδικές απαιτήσεις για το αλκαλιμεταλλικό ικανοποιημένο και ραδιενεργό περιεχόμενο στοιχείων.
πυκνότητα
Προκειμένου να μειωθούν οι πόροι στο στερεό στόχων και να βελτιωθεί η απόδοση της ψεκασμένης ταινίας, ο στόχος απαιτείται συνήθως για να έχει μια υψηλότερη πυκνότητα. Η πυκνότητα του στόχου έχει επιπτώσεις όχι μόνο στο ποσοστό επιμετάλλωσης, αλλά και τις ηλεκτρικές και οπτικές ιδιότητες της ταινίας. Όσο υψηλότερη η πυκνότητα στόχων, τόσο καλύτερη η απόδοση της ταινίας. Επιπλέον, η αύξηση της πυκνότητας και της δύναμης του στόχου επιτρέπει στο στόχο για να αντισταθεί καλύτερα τη θερμική πίεση κατά τη διάρκεια της επιμετάλλωσης. Η πυκνότητα είναι επίσης ένας από τους βασικούς δείκτες απόδοσης του στόχου.
Διανομή μεγέθους σιταριού και μεγέθους σιταριού
Συνήθως το υλικό στόχων είναι πολυκρυσταλλικής δομής, και το μέγεθος σιταριού μπορεί να είναι της τάξεως των μικρόμετρων στα χιλιοστόμετρα. Για το ίδιο υλικό στόχων, το ποσοστό επιμετάλλωσης του στόχου με τα λεπτά σιτάρια είναι γρηγορότερο από αυτό του στόχου με τα χονδροειδή σιτάρια ενώ η διανομή πάχους της λεπτής ταινίας που κατατίθεται με την επιμετάλλωση του στόχου με τη μικρότερη διαφορά μεγέθους σιταριού (ομοιόμορφη διανομή) είναι πιό ομοιόμορφη.