ট্যানটালাম স্পাটারিং টার্গেট ম্যাটেরিয়ালস Gr1 টাইটানিয়াম অক্সাইড উইথ পিভিডি ভ্যাকুয়াম লেপ

স্কয়ার পিওর টাইটানিয়াম স্পুটারিং টার্গেট উচ্চ বিশুদ্ধতা 99.995% সার্কুলার টাই টাইটানিয়াম স্পুটারিং টার্গেট
টাইটানিয়াম sputtering লক্ষ্য
পিভিডি লেপ গ্রেড 1 টাইটানিয়াম আর্ক টার্গেট টাই টার্গেট টাইটানিয়াম স্পুটারিং টার্গেট
99.9% টিওক্স টাইটানিয়াম অক্সাইড রোটারি টার্গেট স্পুটারিং টার্গেট পিভিডি ভ্যাকুয়াম লেপ টাইটানিয়াম অক্সাইড TIOX স্পুটারিং টার্গেট
 
উচ্চ বিশুদ্ধতা GR1 sputtering টাইটানিয়াম লক্ষ্য

 
"স্পটারিং লক্ষ্যগুলি মূলত ইলেকট্রনিক এবং তথ্য শিল্পে ব্যবহৃত হয়, যেমন ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট, তথ্য স্টোরেজ, লিকুইড ক্রিস্টাল ডিসপ্লে, লেজার মেমরি, ইলেকট্রনিক কন্ট্রোলার, ইত্যাদি; এগুলি কাচের আবরণের ক্ষেত্রেও ব্যবহার করা যেতে পারে; এগুলিও ব্যবহার করা যেতে পারে শিল্পে যেমন পরিধান-প্রতিরোধী উপকরণ, উচ্চ তাপমাত্রা জারা প্রতিরোধের, উচ্চ-গ্রেডের আলংকারিক পণ্য ইত্যাদি।

স্পুটারিং টার্গেটের প্রয়োজনীয়তা ঐতিহ্যগত উপাদান শিল্পের তুলনায় বেশি, যেমন আকার, সমতলতা, বিশুদ্ধতা, অশুদ্ধতা বিষয়বস্তু, ঘনত্ব, N/O/C/s, শস্যের আকার এবং ত্রুটি নিয়ন্ত্রণ;উচ্চতর বা বিশেষ প্রয়োজনীয়তাগুলির মধ্যে রয়েছে: পৃষ্ঠের রুক্ষতা, প্রতিরোধের মান, শস্যের আকার অভিন্নতা, রচনা এবং কাঠামোর অভিন্নতা, বিদেশী পদার্থ (অক্সাইড) সামগ্রী এবং আকার, ব্যাপ্তিযোগ্যতা, অতি-উচ্চ ঘনত্ব এবং অতি-সূক্ষ্ম শস্য, ইত্যাদি। ম্যাগনেট্রন স্পুটারিং আবরণ একটি নতুন ভৌত বাষ্প আবরণ পদ্ধতি, যা একটি ইলেক্ট্রন বন্দুক পদ্ধতি ব্যবহার করে ধাতুপট্টাবৃত উপাদানের উপর ইলেকট্রন নির্গত এবং ফোকাস করে, যাতে ছিটকে পড়া পরমাণুগুলি ভরবেগ রূপান্তরের নীতি অনুসরণ করে এবং একটি ফিল্ম গঠনের জন্য উচ্চ গতিশক্তি সহ উপাদান থেকে দূরে সাবস্ট্রেটে উড়ে যায়।এই ধাতুপট্টাবৃত উপাদান sputtering লক্ষ্য বলা হয়.
প্রশ্ন: কেন আমাদের বেছে নিন?
A1: টাইটানিয়াম পণ্য তৈরির জন্য আমাদের 14 বছরের অভিজ্ঞতা রয়েছে।
A2: নমুনা অর্ডার গ্রহণযোগ্য।
A3: কম দাম, ভাল মানের এবং স্বল্প ডেলিভারি সময়।
A4: উদ্ধৃতি 24 ঘন্টার মধ্যে করা যেতে পারে।
A5: ISO9001:2015 সার্টিফিকেশন
A6: আমাদের অঙ্কন দিন, আপনার অঙ্কন এবং ধারণা বাস্তবে পরিণত করুন!
A7: তৃতীয় পক্ষের গুণমান পরিদর্শন প্রতিবেদন প্রদান করুন।