কাচের আবরণের জন্য উচ্চ বিশুদ্ধতা টাইটানিয়াম স্পুটারিং টার্গেট সিএনসি লেদ সারফেস

উচ্চ বিশুদ্ধতা টাইটানিয়াম লক্ষ্য টাইটানিয়াম স্পুটারিং লক্ষ্য

আমরা বৃত্তাকার টাইটানিয়াম লক্ষ্য, বর্গক্ষেত্র টাইটানিয়াম লক্ষ্য, আয়তক্ষেত্রাকার টাইটানিয়াম লক্ষ্য প্রদান করতে পারি,

বা আপনার প্রয়োজনীয়তা বা অঙ্কন অনুযায়ী।

পণ্যের সাথে এইভাবে গুণমান পরিদর্শন প্রতিবেদন সরবরাহ করুন,

যা রাসায়নিক গঠন এবং শারীরিক বৈশিষ্ট্য দেখায়

100% গুণমান পরিদর্শন, গুণমানের নিশ্চয়তা।

পেশাদার টাইটানিয়াম উত্পাদন অভিজ্ঞতা.

কারণ আমরা শুধুমাত্র টাইটানিয়াম তৈরি করি, আমরা টাইটানিয়ামে আরও পেশাদার

ISO9001:2015 সার্টিফিকেশন

বন্ধুত্বপূর্ণ গ্রাহক সেবা এবং স্বল্প ডেলিভারি সময়।

টাইটানিয়াম স্পাটারিং লক্ষ্যগুলি মূলত ইলেকট্রনিক এবং তথ্য শিল্পে ব্যবহৃত হয় যেমন ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট, তথ্য স্টোরেজ, লিকুইড ক্রিস্টাল ডিসপ্লে, লেজার মেমরি এবং ইলেকট্রনিক কন্ট্রোল ডিভাইস।এগুলি কাচের আবরণের ক্ষেত্রেও ব্যবহার করা যেতে পারে।এটি পরিধান প্রতিরোধী উপকরণ, উচ্চ তাপমাত্রা জারা প্রতিরোধী, প্রিমিয়াম আলংকারিক পণ্য এবং অন্যান্য শিল্পে ব্যবহার করা যেতে পারে।

উচ্চ-বিশুদ্ধতা, উচ্চ-ঘনত্ব টাইটানিয়াম স্পুটারিং লক্ষ্য:

টাইটানিয়াম স্পুটারিং লক্ষ্য (বিশুদ্ধতা: 99.9% -99.999%)

Magnetron sputtering আবরণ একটি নতুন ধরনের শারীরিক জমা পদ্ধতি।বাষ্প জমা আবরণ পদ্ধতির উপর অনেক সুস্পষ্ট সুবিধা আছে.তুলনামূলকভাবে পরিপক্ক প্রযুক্তির বিকাশ হওয়ায়, ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং অনেক ক্ষেত্রে প্রয়োগ করা হয়েছে।টাইটানিয়াম sputtering লক্ষ্য
স্পুটারিং প্রযুক্তি টাইটানিয়াম স্পুটারিং টার্গেট

স্পাটারিং পাতলা ফিল্ম উপকরণ উত্পাদন জন্য নেতৃস্থানীয় প্রযুক্তি এক.আয়ন উত্স দ্বারা উত্পন্ন আয়নগুলি দ্রুত শক্তি আয়ন মরীচি গঠনের জন্য ভ্যাকুয়ামে ত্বরান্বিত এবং একত্রিত করতে ব্যবহৃত হয়, যা কঠিন পৃষ্ঠকে প্রভাবিত করে এবং আয়ন এবং কঠিন পৃষ্ঠের পরমাণুর মধ্যে গতিশক্তি বিনিময় করে।একটি কঠিন পৃষ্ঠের পরমাণুগুলি কঠিনকে ছেড়ে যায় এবং স্তরটির পৃষ্ঠে জমা হয়।স্পটারিং পদ্ধতিতে জমা করা পাতলা ফিল্ম প্রস্তুত করার জন্য প্রভাবিত কঠিন একটি কাঁচামাল, যাকে স্পাটারিং টার্গেট বলা হয়।সেমিকন্ডাক্টর ইন্টিগ্রেটেড সার্কিট, ফটোভোলটাইকস, রেকর্ডিং মিডিয়া, ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে এবং ওয়ার্কপিস পৃষ্ঠের আবরণে বিভিন্ন ধরণের স্পুটারযুক্ত পাতলা ফিল্ম সামগ্রী ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত হয়।

বিভিন্ন আবরণ লক্ষ্যের প্রক্রিয়াকরণ:

ধাতব লক্ষ্যবস্তু: টাংস্টেন টার্গেট, মলিবডেনাম টার্গেট, ট্যানটালাম টার্গেট, নাইওবিয়াম টার্গেট, জিরকোনিয়াম টার্গেট, কোবাল্ট টার্গেট, ভ্যানাডিয়াম টার্গেট, কপার টার্গেট, প্ল্যাটিনাম টার্গেট, হাফনিয়াম টার্গেট, নাইওবিয়াম টার্গেট, অ্যালুমিনিয়াম টার্গেট, আয়রন টার্গেট, ক্রোমিয়াম টার্গেট, টাইটানিয়াম-নিওবিয়াম অ্যালয় টার্গেট , টাইটানিয়াম-জিরকোনিয়াম খাদ লক্ষ্য, টাইটানিয়াম-টাংস্টেন খাদ লক্ষ্য, টাইটানিয়াম-গুই খাদ লক্ষ্য, টাইটানিয়াম-অ্যালুমিনিয়াম লক্ষ্য, নিকেল-ক্রোমিয়াম খাদ লক্ষ্য, অ্যালুমিনিয়াম-ক্রোমিয়াম খাদ লক্ষ্য, উচ্চ-বিশুদ্ধতা টাইটানিয়াম লক্ষ্য, অতি-উচ্চ-বিশুদ্ধতা টাইটানিয়াম লক্ষ্য, উচ্চ-বিশুদ্ধতা নিকেল লক্ষ্য, উচ্চ-বিশুদ্ধতা ট্যানটালাম লক্ষ্য, পলিসিলিকন লক্ষ্যবস্তু, অতি-উচ্চ বিশুদ্ধতা অ্যালুমিনিয়াম লক্ষ্য, (99.95%-99.999%),

শ্রেণীবিভাগ: মাল্টি-আর্ক আয়ন আবরণ লক্ষ্য, টাইটানিয়াম ফ্ল্যাট লক্ষ্য, টাইটানিয়াম রোটারি টিউব লক্ষ্য, টাইটানিয়াম লক্ষ্য ব্যাক প্লেট, টাইটানিয়াম লক্ষ্য ব্যাক টিউব

ব্যবহার: টুল লেপ, আলংকারিক আবরণ, ইলেকট্রনিক্স শিল্প, ফ্ল্যাট প্যানেল ডিসপ্লে শিল্প, বড় এলাকা লো-ই গ্লাস আবরণ, সেমিকন্ডাক্টর, এলসিডি, সৌর শক্তি শিল্প, অপটিক্যাল লেন্স, অপটোইলেক্ট্রনিক শিল্প, সিরামিক বাঁধাই লক্ষ্য, স্প্রে করার লক্ষ্য ইত্যাদি।