ग्लास कोटिंग के लिए उच्च शुद्धता टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य सीएनसी खराद सतह

उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य

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टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक और सूचना उद्योगों जैसे एकीकृत सर्किट, सूचना भंडारण, लिक्विड क्रिस्टल डिस्प्ले, लेजर मेमोरी और इलेक्ट्रॉनिक नियंत्रण उपकरणों में उपयोग किए जाते हैं।इनका उपयोग ग्लास कोटिंग के क्षेत्र में भी किया जा सकता है।इसका उपयोग पहनने के लिए प्रतिरोधी सामग्री, उच्च तापमान जंग प्रतिरोधी, प्रीमियम सजावटी उत्पादों और अन्य उद्योगों में भी किया जा सकता है।

उच्च शुद्धता, उच्च घनत्व टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य:

टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य (शुद्धता: 99.9% -99.999%)

मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग एक नए प्रकार की भौतिक निक्षेपण विधि है।वाष्प जमाव कोटिंग विधियों पर कई स्पष्ट लाभ हैं।एक अपेक्षाकृत परिपक्व तकनीक के रूप में, कई क्षेत्रों में मैग्नेट्रोन स्पटरिंग को लागू किया गया है।टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य
स्पटरिंग टेक्नोलॉजी टाइटेनियम स्पटरिंग टारगेट

स्पटरिंग पतली फिल्म सामग्री के निर्माण के लिए अग्रणी तकनीकों में से एक है।आयन स्रोत द्वारा उत्पन्न आयनों का उपयोग वैक्यूम में तेजी लाने और एकत्र करने के लिए एक तेज ऊर्जा आयन बीम बनाने के लिए किया जाता है, जो ठोस सतह को प्रभावित करता है और आयनों और ठोस सतह परमाणुओं के बीच गतिज ऊर्जा का आदान-प्रदान करता है।ठोस की सतह पर परमाणु ठोस छोड़ देते हैं और सब्सट्रेट की सतह पर जमा हो जाते हैं।प्रभावित ठोस स्पटरिंग विधि द्वारा जमा की गई पतली फिल्मों को तैयार करने के लिए एक कच्चा माल है, जिसे स्पटरिंग लक्ष्य कहा जाता है।अर्धचालक एकीकृत सर्किट, फोटोवोल्टिक, रिकॉर्डिंग मीडिया, फ्लैट पैनल डिस्प्ले और वर्कपीस सतह कोटिंग्स में विभिन्न प्रकार की स्पटर वाली पतली फिल्म सामग्री का व्यापक रूप से उपयोग किया जाता है।

विभिन्न कोटिंग लक्ष्यों का प्रसंस्करण:

धातु लक्ष्य: टंगस्टन लक्ष्य, मोलिब्डेनम लक्ष्य, टैंटलम लक्ष्य, नाइओबियम लक्ष्य, ज़िरकोनियम लक्ष्य, कोबाल्ट लक्ष्य, वैनेडियम लक्ष्य, तांबा लक्ष्य, प्लैटिनम लक्ष्य, हेफ़नियम लक्ष्य, नाइओबियम लक्ष्य, एल्यूमीनियम लक्ष्य, लौह लक्ष्य, क्रोमियम लक्ष्य, टाइटेनियम-नाइओबियम मिश्र धातु लक्ष्य , टाइटेनियम-ज़िरकोनियम मिश्र धातु लक्ष्य, टाइटेनियम-टंगस्टन मिश्र धातु लक्ष्य, टाइटेनियम-गुई मिश्र धातु लक्ष्य, टाइटेनियम-एल्यूमीनियम लक्ष्य, निकल-क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य, एल्यूमीनियम-क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य, उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य, अल्ट्रा-उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य, उच्च शुद्धता निकल लक्ष्य, उच्च शुद्धता टैंटलम लक्ष्य, पॉलीसिलिकॉन लक्ष्य सामग्री, अल्ट्रा-उच्च शुद्धता एल्यूमीनियम लक्ष्य, (99.95%-99.999%),

वर्गीकरण: मल्टी-आर्क आयन कोटिंग लक्ष्य, टाइटेनियम फ्लैट लक्ष्य, टाइटेनियम रोटरी ट्यूब लक्ष्य, टाइटेनियम लक्ष्य बैक प्लेट, टाइटेनियम लक्ष्य बैक ट्यूब

उपयोग: उपकरण कोटिंग, सजावटी कोटिंग, इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग, फ्लैट पैनल डिस्प्ले उद्योग, बड़े क्षेत्र लो-ई ग्लास कोटिंग, सेमीकंडक्टर, एलसीडी, सौर ऊर्जा उद्योग, ऑप्टिकल लेंस, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग, सिरेमिक बाध्यकारी लक्ष्य, छिड़काव लक्ष्य, आदि।