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उत्पाद विवरण:
भुगतान & नौवहन नियमों:
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| नाम: | टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य | मुख्य शब्द: | टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य |
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| आवेदन पत्र: | कोटिंग, इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग | श्रेणी: | Gr1 TA1 शुद्ध |
| घनत्व: | 4.51 ग्राम/सेमी3 | पवित्रता: | 99.9%-99.999% |
| शुद्धता 1: | 2N8-4N | सामग्री: | टाइटेनियम |
| प्रमुखता देना: | उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य,प्रायोगिक मौलिक टाइटेनियम लक्ष्य,Gr1 मैग्नेट्रॉन टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य |
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टाइटेनियम लक्ष्य 99.999% उच्च शुद्धता स्पटरिंग लक्ष्य प्रायोगिक मौलिक टाइटेनियम
अनुकूलित टाइटेनियम लक्ष्य टाइटेनियम दौर लक्ष्य
| उत्पाद | शुद्ध टाइटेनियम (टीआई) लक्ष्य) |
| पवित्रता | 2N8-4N |
| घनत्व | 4.51 ग्राम/सेमी3 |
| कोटिंग प्रमुख रंग | सोना नीला / गुलाब लाल / काला |
| आकार | बेलनाकार |
| सामान्य आकार | व्यास 60/65/95/100 * 30/32/40/45 मिमी |
आम तौर पर हम माल के साथ इस तरह एक गुणवत्ता निरीक्षण रिपोर्ट प्रदान करेंगे,
जो रासायनिक संरचना और भौतिक गुणों को दर्शाता है
टाइटेनियम वर्ग लक्ष्य, टाइटेनियम गोल लक्ष्य, टाइटेनियम विशेष आकार लक्ष्य
शुद्धता लक्ष्य प्रदर्शन संकेतकों में से एक है।
लक्ष्य सामग्री की शुद्धता का फिल्म के प्रदर्शन पर बहुत प्रभाव पड़ता है।
लक्ष्यों के लिए मुख्य प्रदर्शन आवश्यकताएं:
पवित्रता
लक्ष्य की शुद्धता लक्ष्य के मुख्य प्रदर्शन संकेतकों में से एक है क्योंकि लक्ष्य की शुद्धता फिल्म के प्रदर्शन को बहुत प्रभावित करती है।हालांकि, वास्तविक अनुप्रयोगों में, लक्ष्य सामग्री की शुद्धता की आवश्यकताएं समान नहीं हैं।उदाहरण के लिए, माइक्रोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग के तेजी से विकास के साथ सिलिकॉन वेफर का आकार 6 ", 8" से बढ़ाकर 12 " कर दिया गया था, वायरिंग की चौड़ाई 0.5 um से घटाकर 0.25 um, 0.18 um और 0.13 um कर दी गई थी। पहले, लक्ष्य शुद्धता 99.995% थी।
अशुद्धता सामग्री
जमा फिल्म का मुख्य स्रोत लक्ष्य ठोस और छिद्रों की ऑक्सीजन और नमी है।विभिन्न अनुप्रयोगों के लिए लक्ष्य विभिन्न अशुद्धता स्तरों के लिए अलग-अलग आवश्यकताएं हैं।उदाहरण के लिए, अर्धचालक उद्योग में उपयोग किए जाने वाले शुद्ध एल्यूमीनियम और एल्यूमीनियम मिश्र धातुओं के लक्ष्य में क्षार धातु सामग्री और रेडियोधर्मी तत्व सामग्री के लिए विशेष आवश्यकताएं होती हैं।
घनत्व
लक्ष्य ठोस के छिद्रों को कम करने और स्पटर वाली फिल्मों के प्रदर्शन में सुधार करने के लिए, लक्ष्य को आम तौर पर अधिक सघन होने की आवश्यकता होती है।लक्ष्य घनत्व न केवल स्पटरिंग दर बल्कि फिल्म के विद्युत और ऑप्टिकल गुणों को भी प्रभावित करता है।लक्ष्य घनत्व जितना अधिक होगा, फिल्म का प्रदर्शन उतना ही बेहतर होगा।इसके अलावा, जब लक्ष्य घनत्व और तीव्रता बढ़ जाती है, तो लक्ष्य स्पटरिंग के दौरान थर्मल तनाव का सामना कर सकता है।घनत्व लक्ष्य प्रदर्शन संकेतकों में से एक है।
अनाज का आकार और आकार वितरण
आमतौर पर लक्ष्य पॉलीक्रिस्टलाइन होता है, और कण आकार माइक्रोमीटर से मिलीमीटर के क्रम में हो सकता है।एक ही लक्ष्य के मामले में, महीन दाने वाले लक्ष्य की स्पटरिंग दर मोटे दाने वाले लक्ष्य की स्पटरिंग दर से तेज होती है, जबकि छोटे कण आकार (समान वितरण) लक्ष्य के स्पटर जमाव में एक समान मोटाई वितरण (समान) होता है। .वितरण।
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