गोल टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य जाली सीएनसी मशीनिंग

अनुकूलित टाइटेनियम लक्ष्य टाइटेनियम दौर लक्ष्य

उच्च शुद्धता और उच्च घनत्व टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्यों में शामिल हैं:
टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य (शुद्धता: 99.9%-99.999%)

आमतौर पर हम माल के साथ इस तरह की गुणवत्ता निरीक्षण रिपोर्ट प्रदान करेंगे,

जो रासायनिक संरचना और भौतिक गुणों को दर्शाता है

प्रश्न: हमें क्यों चुना?

ए 1: टाइटेनियम उत्पादों को बनाने के लिए हमारे पास 14 साल का अनुभव है।

ए 2: नमूना आदेश स्वीकार्य है।

A3: कम कीमत, अच्छी गुणवत्ता और कम प्रसव के समय।

A4: उद्धरण 24 घंटे के भीतर बनाया जा सकता है।

A5: ISO9001:2015 प्रमाणन

A6: हमें चित्र दें, अपने चित्र और विचारों को वास्तविकता बनाएं!

उ7: तृतीय-पक्ष गुणवत्ता निरीक्षण रिपोर्ट प्रदान करें।

कोटिंग के लिए विभिन्न टाइटेनियम लक्ष्यों को संसाधित करना:

धातु लक्ष्य: टंगस्टन लक्ष्य, मोलिब्डेनम लक्ष्य, टैंटलम लक्ष्य, नाइओबियम लक्ष्य, ज़िरकोनियम लक्ष्य, कोबाल्ट लक्ष्य, वैनेडियम लक्ष्य, तांबा लक्ष्य, प्लैटिनम लक्ष्य, हेफ़नियम लक्ष्य, नाइओबियम लक्ष्य, एल्यूमीनियम लक्ष्य, लौह लक्ष्य, क्रोमियम लक्ष्य, टाइटेनियम-नाइओबियम मिश्र धातु लक्ष्य , टाइटेनियम-ज़िरकोनियम मिश्र धातु लक्ष्य, टाइटेनियम-टंगस्टन मिश्र धातु लक्ष्य, टाइटेनियम-गुई मिश्र धातु लक्ष्य, टाइटेनियम-एल्यूमीनियम लक्ष्य, निकल-क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य, एल्यूमीनियम-क्रोमियम मिश्र धातु लक्ष्य, उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य, अल्ट्रा-उच्च शुद्धता टाइटेनियम लक्ष्य, उच्च शुद्धता निकल लक्ष्य, उच्च शुद्धता टैंटलम लक्ष्य, पॉलीसिलिकॉन लक्ष्य सामग्री, अल्ट्रा-उच्च शुद्धता एल्यूमीनियम लक्ष्य, (99.95%-99.999%),

वर्गीकरण: मल्टी-आर्क आयन कोटिंग लक्ष्य, टाइटेनियम फ्लैट लक्ष्य, टाइटेनियम रोटरी ट्यूब लक्ष्य, टाइटेनियम लक्ष्य बैक प्लेट, टाइटेनियम लक्ष्य बैक ट्यूब

उपयोग: उपकरण कोटिंग, सजावटी कोटिंग, इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योग, फ्लैट पैनल डिस्प्ले उद्योग, बड़े क्षेत्र लो-ई ग्लास कोटिंग, सेमीकंडक्टर, एलसीडी, सौर ऊर्जा उद्योग, ऑप्टिकल लेंस, ऑप्टोइलेक्ट्रॉनिक उद्योग, सिरेमिक बाध्यकारी लक्ष्य, छिड़काव लक्ष्य, आदि।

मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग कोटिंग लक्ष्य:
धातु स्पटरिंग कोटिंग लक्ष्य, टाइटेनियम स्पटरिंग लक्ष्य, मिश्र धातु स्पटरिंग कोटिंग लक्ष्य, सिरेमिक स्पटरिंग कोटिंग लक्ष्य, बोराइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, कार्बाइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, फ्लोराइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, नाइट्राइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, ऑक्साइड सिरेमिक लक्ष्य, सेलेनाइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, सिलसाइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, सल्फाइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, टेल्यूराइड सिरेमिक स्पटरिंग लक्ष्य, अन्य सिरेमिक लक्ष्य सामग्री, क्रोमियम-डॉप्ड सिलिकॉन ऑक्साइड सिरेमिक लक्ष्य (Cr-SiO), इंडियम फॉस्फाइड लक्ष्य (InP), लेड आर्सेनाइड लक्ष्य (PbAs), इंडियम आर्सेनाइड लक्ष्य (InAs) )