CNC โรเดียมโลหะสปัตเตอร์เป้าหมายความบริสุทธิ์ 95% สำหรับจอแสดงผลคริสตัลเหลว

Titanium Target Sputtering Coating Titanium ความบริสุทธิ์สูง Titanium Target Purity 99.99% Titanium Target

เป้าหมายการสปัตเตอร์ (ความบริสุทธิ์: 99.9% -99.999%)Square Pure Titanium Sputtering Target ความบริสุทธิ์สูง 99.995% Circular Ti Titanium Sputtering Target

เคลือบ PVD เกรด 1 ไททาเนียม Arc Target Ti เป้าหมายไททาเนียมสปัตเตอร์

การตรวจสอบคุณภาพ 100%

ทำความสะอาดพื้นผิวเพื่อหลีกเลี่ยงข้อบกพร่อง เช่น คราบน้ำมัน รอยขีดข่วน ฯลฯ

การบรรจุ

 เป้าหมายการสปัตเตอร์รวมถึงโลหะ โลหะผสม และสารประกอบเซรามิก
การสปัตเตอร์เป็นหนึ่งในเทคนิคหลักในการเตรียมวัสดุที่เป็นฟิล์มบางใช้ไอออนที่เกิดจากแหล่งกำเนิดไอออนเพื่อเร่งและสะสมในสุญญากาศเพื่อสร้างลำแสงไอออนพลังงานความเร็วสูง ซึ่งจะระเบิดพื้นผิวที่เป็นของแข็ง และแลกเปลี่ยนพลังงานจลน์ระหว่างไอออนกับอะตอมบนพื้นผิวที่เป็นของแข็งอะตอมบนพื้นผิวที่เป็นของแข็งออกจากของแข็งและสะสมอยู่บนพื้นผิวของสารตั้งต้นของแข็งที่ถูกทิ้งระเบิดเป็นวัตถุดิบในการเตรียมฟิล์มสะสมการสปัตเตอร์ซึ่งเรียกว่าเป้าหมายการสปัตเตอร์วัสดุฟิล์มบางแบบสปัตเตอร์ประเภทต่างๆ ถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในวงจรรวมเซมิคอนดักเตอร์ เซลล์แสงอาทิตย์ พลังงานแสงอาทิตย์ สื่อบันทึก จอแบน และการเคลือบพื้นผิวของชิ้นงาน
เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูงและความหนาแน่นสูง ได้แก่:
เป้าหมายสปัตเตอร์ (ความบริสุทธิ์: 99.9% -99.999%)
การเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอริงเป็นวิธีการสะสมไอทางกายภาพแบบใหม่ ซึ่งใช้ระบบปืนอิเล็กตรอนเพื่อปล่อยและโฟกัสอิเล็กตรอนบนวัสดุชุบ เพื่อให้อะตอมที่สปัตเตอร์เป็นไปตามหลักการแปลงโมเมนตัมและบินออกจากวัสดุไปยังพื้นผิวที่มีพลังงานจลน์สูง เพื่อสร้างภาพยนตร์วัสดุชุบนี้เรียกว่าสปัตเตอร์เป้าหมาย

ถาม: ทำไมถึงเลือกเรา
A1: เรามีประสบการณ์ 14 ปีในการผลิตผลิตภัณฑ์ไททาเนียม
A2: สั่งตัวอย่างเป็นที่ยอมรับ
A3: ราคาที่ต่ำกว่า คุณภาพดี และเวลาจัดส่งสั้น
A4: ใบเสนอราคาสามารถทำได้ภายใน 24 ชั่วโมง
A5: ใบรับรอง ISO9001:2015
A6: ให้เราวาดรูป ทำภาพวาดและไอเดียของคุณให้กลายเป็นจริง!
A7: จัดทำรายงานการตรวจสอบคุณภาพของบุคคลที่สาม