หน่วยความจำเลเซอร์ ไทเทเนียม สปัตเตอร์เป้าหมาย พื้นผิวที่สว่างขึ้น เนื้อหา Ti 99.96%

เป้าหมายไทเทเนียมที่มีความบริสุทธิ์สูง เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม

เราสามารถให้เป้าหมายไทเทเนียมกลม เป้าหมายไทเทเนียมสี่เหลี่ยม เป้าหมายไทเทเนียมสี่เหลี่ยม

หรือตามความต้องการหรือภาพวาดของคุณ

จัดทำรายงานการตรวจสอบคุณภาพเช่นนี้พร้อมกับสินค้า

ซึ่งแสดงองค์ประกอบทางเคมีและคุณสมบัติทางกายภาพ

การตรวจสอบคุณภาพ 100% การประกันคุณภาพ

ประสบการณ์การผลิตไททาเนียมระดับมืออาชีพ

เพราะเราผลิตแต่ไททาเนียมเท่านั้น เราจึงเป็นมืออาชีพด้านไททาเนียมมากขึ้น

ใบรับรอง ISO9001:2015

การบริการลูกค้าที่เป็นมิตรและระยะเวลาในการจัดส่งสั้น

เป้าหมายการสปัตเตอร์ไททาเนียมส่วนใหญ่ใช้ในอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์และข้อมูล เช่น วงจรรวม การจัดเก็บข้อมูล จอภาพคริสตัลเหลว หน่วยความจำเลเซอร์ อุปกรณ์ควบคุมอิเล็กทรอนิกส์ ฯลฯพวกเขายังสามารถใช้ในด้านการเคลือบแก้วพวกเขายังสามารถใช้ในวัสดุที่ทนต่อการสึกหรอ การกัดกร่อนทนต่ออุณหภูมิสูง ผลิตภัณฑ์ตกแต่งระดับไฮเอนด์ และอุตสาหกรรมอื่น ๆ

เป้าหมายการสปัตเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูงและความหนาแน่นสูง ได้แก่:
เป้าหมายสปัตเตอร์ (ความบริสุทธิ์: 99.9% -99.999%)

การเคลือบแมกนีตรอนสปัตเตอร์เป็นวิธีการเคลือบไอทางกายภาพรูปแบบใหม่เมื่อเทียบกับวิธีการเคลือบแบบระเหย มีข้อดีที่ชัดเจนหลายประการเนื่องจากเป็นเทคโนโลยีที่ค่อนข้างเติบโตเต็มที่ซึ่งได้รับการพัฒนา แมกนีตรอนสปัตเตอร์ได้ถูกนำมาใช้ในหลายสาขาเป้าหมายสปัตเตอร์ไททาเนียม
เทคโนโลยีการสปัตเตอร์ เป้าหมายการสปัตเตอร์ไทเทเนียม
การสปัตเตอร์เป็นหนึ่งในเทคโนโลยีหลักในการเตรียมวัสดุที่เป็นฟิล์มบางใช้ไอออนที่เกิดจากแหล่งกำเนิดไอออนเพื่อเร่งและรวมตัวในสุญญากาศเพื่อสร้างลำแสงไอออนพลังงานความเร็วสูง ทิ้งระเบิดที่พื้นผิวแข็ง และแลกเปลี่ยนพลังงานจลน์ระหว่างไอออนกับอะตอมของพื้นผิวที่เป็นของแข็งอะตอมบนพื้นผิวที่เป็นของแข็งออกจากของแข็งและสะสมอยู่บนพื้นผิวของสารตั้งต้นของแข็งที่ถูกทิ้งระเบิดเป็นวัตถุดิบในการเตรียมฟิล์มบางที่สะสมโดยวิธีสปัตเตอร์ ซึ่งเรียกว่าเป้าหมายการสปัตเตอร์วัสดุฟิล์มบางแบบสปัตเตอร์หลายประเภทมีการใช้กันอย่างแพร่หลายในวงจรรวมเซมิคอนดักเตอร์ เซลล์แสงอาทิตย์ พลังงานแสงอาทิตย์ สื่อบันทึก จอแบน และการเคลือบพื้นผิวชิ้นงาน