Titaniumgr1 Metaal het Sputteren Doel Materiële CNC Draaibankoppervlakte

Van het het Doeltitanium Diboride/TiB2 van het hoge Zuiverheidsmetaal het Doelmaterialen

Vierkante Zuivere Titanium het Sputteren Doel Hoge Zuiverheid 99,995% Cirkelti-Titanium Sputterend Doel
Titanium sputterend doel

doel van het doel het zuivere titanium, MMO-de Anode van het Deklaagtitanium

Hoge zuiverheid en hoog - omvatten de dichtheids sputterende doelstellingen:
Sputterend doel (zuiverheid: 99.9% - 99,999%)
Wordt het het titanium sputterende doel van het titaniumdoel gebruikt voor liquid crystal display, lasergeheugen, elektronisch controlemechanisme die dunne filmmaterialen, halfgeleidergeïntegreerde schakelingen, zonne photovoltaic, registrerende media, vliegtuigvertoning en de deklaag van de werkstukoppervlakte sputteren
Q: Waarom kies ons?
A1: Wij hebben 14 jaar ervarings voor titaniumproducten het maken.
A2: de steekproeforde is aanvaardbaar.
A3: lagere prijs, goede kwaliteit en korte levertijd.
A4: Het citaat kan zijn maakt binnen 24 uren.
A5: ISO9001: de certificatie van 2015
A6: Geef ons tekening, maak uw tekeningen en ideeën een werkelijkheid worden!
A7: Verstrek de rapporten van de derdekwaliteitscontrole.